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1200℃雙管滑動式單溫區/多溫區CVD系統

更新時間: 2023-07-24

訪問次數: 3951

產品報價:

產品簡介: 產品用途:此款CVD系統是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計,特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔電極方面的研究,通過滑動爐實現快速加熱和冷卻。

詳細資料:

產品用途:

此款CVD系統是專門為在金屬箔上生長薄膜而設計,特別是應用在新一代能源關于柔性金屬箔

電極方面的研究,通過滑動爐實現快速加熱和冷卻。

 

產品組成:

CVD系統配置:

1.1200度開啟式真空管式爐(可選配單溫區及雙溫區)。

2.滑動系統分為手動、電動滑動,并配有風冷系統。

3.內外雙石英管,采用真空可通氣氛雙法蘭特殊連接。

4.多路氣體流量控制系統(質子流量控制器和浮子流量控制器)

5.真空系統(可選配中真空或高真空)

 

產品特點:

產品*性

1 控制電路選用模糊PID程控技術,該技術控溫精度高,熱慣性小,溫度不過沖,性能可靠,操作簡單。

 

2中真空系統具有真空度上下限自動控制功能,高真空系統采用高壓強,耐沖擊分子泵,防止意外漏氣造成分子泵損壞,延長系統使用壽命。

3 (電動)滑動系統采用溫度控制器自動控制爐體移動,等程序完成,爐體按設定的速度滑動,因有滑動限位功能,爐體不會發生碰撞,待樣品露出爐體后,通過風冷系統快速降溫。

4 雙管真空密封法蘭,反應氣體可以在內外管之間發生反應,冷卻氣體可通過內管,從而使內管外壁溫度降低。

 

系統名稱

1200℃雙管滑動式單/多溫區CVD系統

系統型號

CVD-12II6SH-3Z/G

CVD-12III9SH-3Z/G

極限溫度

1200℃

加熱區長度

610mm

940mm

恒溫區長度

400mm

700mm

溫區

雙溫區

三溫區

石英管管徑

內管:Φ80mm   外管:Φ100mm

額定功率

4.8Kw

7.2Kw

額定電壓

220V

380V(三相)

滑動距離

485mm

650mm

滑動方式

手動滑動/自動滑動(由溫度控制器自動控制移動,當程序完成,爐子按設定的速度滑動)

溫度控制

國產程序控溫系統50段程序控溫;

控制精度

±1℃

爐管極限工作溫度

<1200℃

雙管法蘭連接

采用雙法蘭雙卡箍連接可擴展多功能,并且分別獨立對內管和外管進行真空和氣體流量控制.密封法蘭與管件連接的地方采用多環密封技術,在密封法蘭與管外壁間形成了密封,在管件外徑誤差較大的情況下密封仍然有效,該密封法蘭的安裝只需在*使用設備的時候安裝

氣體控制方式

質量流量計

氣路數量

3路(可根據具體需要選配氣路數量)

流量范圍

0-500sccm(標準毫升/分,可選配)氮氣標定

精度

±1%F.S

響應時間

≤4sec

工作溫度

5-45℃

工作壓力

進氣壓力0.05-0.3Mpa(表壓力)

系統連接方式

采用KF快速連接波紋管、高真空手動擋板閥及數顯真空測量儀

規格

高真空

系統真空范圍

1x10-3Pa-1x10-1Pa

真空泵

真空分子泵理論極限真空度
5x10-6Pa抽氣速率1600L/S
額定電壓220V 功率2Kw

爐體外形尺寸

480×770×605mm

410×1100×605mm

系統外形尺寸

530×1440×750mm(不含高真空)

系統總重量

340Kg

 

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